请问「磁控溅射」是什么意思?
2026-07-11 20:13:40
「磁控溅射」读音
拼音 cí kòng jiàn shè,注音 ㄘˊ ㄎㄨㄥˋ ㄐㄧㄢˋ ㄕㄜˋ
| 拼音字母 | ci kong jian she |
|---|---|
| 拼音首字母 | ckjs |
| 注音符号 | ㄘ ㄎㄨㄥ ㄐㄧㄢ ㄕㄜ |
| 注音首符号 | ㄘㄎㄐㄕ |
「磁控溅射」释义
扩展释义 磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
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